アクティブレイ・サイエンティフィック株式会社
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試料の大きさ, 紫外線の波長に応じた以下の製品をご用意しています
(各項をクリックすると製品概要に移動します)


紫外線照射装置/卓上型UV照射装置

- オゾンレス型(254nm)
- オゾン型(185nm & 254nm)

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<写真をクリックすると拡大します>

大型基板の処理が可能
試料にダメージを与えず高度な洗浄

表面処理技術の一つであるUV処理用の卓上型UV照射装置です。卓上型ながら大型基板の処理が出来、表面改質やウエハ洗浄等の処理プロセスの開発に最適です。基板設置台の高さ調整が可能で、厚みのある試料にも対応出来ます。紫外線の照射エネルギーと二次的に発生するオゾンにより有機汚染物質を酸化分解し、試料の洗浄・改質を行います。ウエット洗浄とは異なり廃液を出さず、試料に物理的ダメージを与える事なく高度な洗浄効果が得られます。また、有機汚染物質はガス化して排気されるため、有機汚染物質の再付着が起こりません。
本装置は卓上型の紫外線(UV)照射装置で以下の機能を有しています。

  • 最大Φ300㎜のシリコンウエハ、ガラスなどの基板(試料)にUV照射を行い、表面の有機物を除去し、濡れ性を向上させることが出来ます。
  • 基板(試料)ホルダーの上下、または取替えが容易なため、厚みのある基板(試料)を処理することが可能となります。
  • オゾン発生型装置は、オゾンによる処理を併用することにより、高いクリーニング効果が可能となります。
  • 基板(試料)セット後の処理は自動運転が可能です。

製品仕様: オゾンレス型(254nm), オゾン型(185nm & 254nm)

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オゾンレス型(254nm), オゾン型(185nm & 254nm)仕様
型式  オゾンレス型 オゾン型
低圧水銀ランプ オゾンレスランプ オゾンランプ
(U字型36Wx6本) (U字型36Wx6本)
波長 [nm] 254 185/254
ランプ安定器 ラピッドスタート式 ラピッドスタート式

共通仕様
基板(試料)の大きさ Φ300㎜ Siウエハ, ガラス等,□300㎜x50㎜
基板(試料)ホルダー □300㎜
照射距離 5~55㎜
基板(試料)ホルダーの高さを5mmきざみで変更可能
本体大きさ W567×D662×H220
重量 28[㎏]
ワーク取り出し 上蓋開閉式
制御ユニット 1) 制御方式:PLC制御 
2) 操作パネル:押しボタンスイッチ方式
3) ランプ電源:本体に内蔵
電源 AC 100V 15A(最大時)

*...上記仕様は予告無く変更することがあります。

主な用途
■ ウェハ、フォトマスク、ガラス基板、光学部品の洗浄
■ 樹脂素材の表面改質
■ 接着、塗装、印刷、蒸着、はんだ等の密着性の向上
■ 表面の濡れ性改善
■ 電気製品
■ 自動車(外装品・内装品)
■ 液晶ディスプレイ
■ 半導体
■ 光学部品
■ 木工用
■ その他

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