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紫外線照射装置/卓上型ＵＶ照射装置
型式：MUV1000 オゾンレス型
型式：MUV2100 オゾン型
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大型基板の処理が可能
試料にダメージを与えず高度な洗浄
MUV1000/2100は表面処理技術の一つであるUV処理用の卓上型UV照射装置です。卓上型ながら大型基板の処理が出来、表面改質やウエハ洗浄等の処理プロセスの開発に最適です。基板設置台の高さ調整が可能で、厚みのある試料にも対応出来ます。紫外線の照射エネルギーと二次的に発生するオゾンにより有機汚染物質を酸化分解し、試料の洗浄・改質を行います。ウエット洗浄とは異なり廃液を出さず、試料に物理的ダメージを与える事なく高度な洗浄効果が得られます。また、有機汚染物質はガス化して排気されるため、有機汚染物質の再付着が起こりません。
本装置は卓上型の紫外線（ＵＶ）照射装置で以下の機能を有しています。
- 最大Φ３００㎜のシリコンウエハ、ガラスなどの基板（試料）にＵＶ照射を行い、表面の有機物を除去し、濡れ性を向上させることが出来ます。
- 基板（試料）ホルダーの上下、または取替えが容易なため、厚みのある基板（試料)を処理することが可能となります。
- オゾン発生型装置は、オゾンによる処理を併用することにより、高いクリーニング効果が可能となります。
- 基板（試料）セット後の処理は自動運転が可能です。
型式：MUV1000（オゾンレス型）/MUV2100（オゾン型）仕様
| MUV1000（オゾンレス型）/MUV2100（オゾン型）仕様仕様 | ||
| 型式 | MUV1000 | MUV2100 |
| 低圧水銀ランプ | オゾンレスランプ | オゾンランプ |
| （U字型36Wx6本） | （U字型36Wx6本） | |
| 波長 ［nm］ | 254 | 185/254 |
| ランプ安定器 | ラピッドスタート式 | ラピッドスタート式 |
| 共通仕様 | |
| 基板（試料）の大きさ | Φ300㎜ Siウエハ, ガラス等,□300㎜x50㎜ |
| 基板（試料）ホルダー | □300㎜ |
| 照射距離 | 0~50㎜ 基板（試料）ホルダーの高さを段階的に変更可変 |
| 本体大きさ | W567×D662×H220 |
| 重量 | 28［㎏］ |
| ワーク取り出し | 上蓋開閉式 |
| 制御ユニット | 1) 制御方式：PLC制御 |
| 2) 操作パネル：押しボタンスイッチ方式 | |
| 3) ランプ電源：本体に内蔵 | |
| 電源 | AC 100V 11A（最大時） |
*...上記仕様は予告無く変更することがあります。
| 主な用途 |
| ■ ウェハ、フォトマスク、ガラス基板、光学部品の洗浄 ■ 樹脂素材の表面改質 ■ 接着、塗装、印刷、蒸着、はんだ等の密着性の向上 ■ 表面の濡れ性改善 ■ 電気製品 ■ 自動車（外装品・内装品） ■ 液晶ディスプレイ ■ 半導体 ■ 光学部品 ■ 木工用 ■ その他 |
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